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      二氧化硅拋光液的介紹

      所屬欄目:新聞動態 作者:小編 發布時間:2021-12-28 17:32 瀏覽量:

      產品概述:二氧化硅拋光液由高純納米二氧化硅等多種復合材料配置而成,通過高科技術分散成納米顆粒,分散均勻的納米拋光液,具有高強度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點,是一種性能優良的CM P技術用的拋光材料。

      應用特性:

      1、拋光速率快,利用分散均勻大粒徑的膠體二氧化硅等粒子達到高速拋光的目的;

      2、高純度,拋光液不腐蝕設備,使用的安全性能高;

      3、高平坦度加工,本品拋光是利用SiO2等材料的均勻納米粒子,不會對加工件造成物理損傷,達到高平坦化加工;

      4、有效有效減少拋光后的表面劃傷,降低拋光后的表面粗糙度。

      應用范圍:

      1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。

      2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程,適用于大規模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。

      3、用于晶圓的后道CMP清洗等半導體器件的加工過程、平面顯示器、多晶化模組、微電機系統、光導攝像管等的加工過程。

      4、廣泛用于CMP化學機械拋光,如:硅片、化合物晶體、精密光學器件、硬盤盤片、寶石、大理石等納米級及亞納米級拋光加工。

      5、本產品可以作為一種添加劑,也可應用于水性高耐候石材保護液、水性膠粘劑與高耐候外墻涂料等領域。

      使用注意事項:

      1、本品放置時間長后,若有少量沉淀屬于正?,F象,用攪拌機攪拌均勻不影響使用。

      2、如有產品變稠現象,是二氧化硅本身的特性,可以按照與水1:1的比例稀釋,攪拌均勻后再使用。

      3、密閉,干燥陰涼處儲存,避免太陽直射。


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